不同材料對X射線的透過率不同。其中鈹的透過率最好，當X射線的能量達到3Kev時就能有50%以上的射線透過。所以濱松所生產的X射線源都采用鈹窗。但值得注意的是，有些應用中只需要高能部分X射線，此時可以自行添加鋁層等過濾層，過濾低能X射線。

X射線源焦點

在MFX中，電子透鏡將電子束聚焦到靶上的一個點——X射線焦點。在其他條件一致的情況下，X射線焦點越小，成像質量越好。所以這個電子透鏡設計的優(yōu)劣（直接）決定MFX的性能。開放管一般使用線圈通過磁場對電子軌道進行控制，能使焦點更小。封閉管受到FOD的限制，一般使用電場對電子軌道進行控制，焦點偏大。濱松目前最好的開放管焦點尺寸可以達到0.25um（L10711-03）。

電子在沖撞靶面時X射線變換的效率很低，99%以上會變成熱能；而MFX是把大量電子聚焦到靶上的極小一點（X射線焦點）上，過高的功率或者隨著工作時間延長，靶面會被逐漸融化，使得：1、穩(wěn)定性漸漸變差；2、產生的X線劑量漸漸減少，X線相機上的圖像變昏暗；3、焦點尺寸漸漸變大，分辨率變差。

MFX所發(fā)出的最大X射線光子能量等于入射電子在X 射線管加速電場中所獲得的能量——電子電量乘以加速電場（即管電壓）。所以連續(xù)X射線的短波極限只與管電壓有關，而與其他因素無關。管電壓越高，所產生的X射線的能量越高，波長越短，穿透物質的能力也越強。

管電流越大，單位時間轟擊到靶上的高速電子就越多，MFX發(fā)射出的X射線就越多，相當于一定面積的X射線的劑量增加（或者類比于電燈變亮），對應圖像的亮度增加。

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