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X射線探傷設(shè)備無損檢測原理

發(fā)布時間:2024-06-02

導讀:

X射線能在無損檢測技術(shù)中得到廣泛應用的主要原因是:X射線探傷設(shè)備是指利用X射線能夠穿透金屬材料,并由于材料對射線的吸收和散射作用的不同,從而使膠片感光不一樣,于是在底片上形成黑度不同的影像,據(jù)此來判斷材料內(nèi)部缺陷情況的一種檢驗方法。

X射線探傷設(shè)備無損檢測原理

X射線探傷是指利用X射線能夠穿透金屬材料,并由于材料對射線的吸收和散射作用的不同,從而使膠片感光不一樣,于是在底片上形成黑度不同的影像,據(jù)此來判斷材料內(nèi)部缺陷情況的一種檢驗方法。

X射線能在無損檢測技術(shù)中得到廣泛應用的主要原因是:

X射線探傷設(shè)備是指利用X射線能夠穿透金屬材料,并由于材料對射線的吸收和散射作用的不同,從而使膠片感光不一樣,于是在底片上形成黑度不同的影像,據(jù)此來判斷材料內(nèi)部缺陷情況的一種檢驗方法。

X射線探傷設(shè)備原理:

X射線探傷是利用X射線可以穿透物質(zhì)和在物質(zhì)中具有衰減的特性,發(fā)現(xiàn)缺陷的一種無損檢測方法。

X射線的波長很短一般為0.001~0.1nm。

X射線以光速直線傳播,不受電場和磁場的影響,可穿透物質(zhì),在穿透過程中有衰減,能使膠片感光。

當X射線穿透物質(zhì)時,由于射線與物質(zhì)的相互作用,將產(chǎn)生一系列極為復雜的物理過程,其結(jié)果使射線被吸收和散射而失去一部分能量,強度相應減弱,這種現(xiàn)象稱之為射線的衰減。

X射線探傷設(shè)備無損檢測的實質(zhì)是根據(jù)被檢驗工件與其內(nèi)部缺陷介質(zhì)對射線能量衰減程度不同,而引起射線透過工件后強度差異,使感光材料(膠片)上獲得缺陷投影所產(chǎn)生的潛影,經(jīng)過暗室處理后獲得缺陷影像,再對照標準評定工件內(nèi)部缺陷的性質(zhì)和底片級別。

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