發(fā)布時(shí)間:2024-06-02
不同材料對(duì)X射線的透過(guò)率不同。其中鈹?shù)耐高^(guò)率最好,當(dāng)X射線的能量達(dá)到3Kev時(shí)就能有50%以上的射線透過(guò)。所以濱松所生產(chǎn)的X射線源都采用鈹窗。但值得注意的是,有些應(yīng)用中只需要高能部分X射線,此時(shí)可以自行添加鋁層等過(guò)濾層,過(guò)濾低能X射線。
不同材料對(duì)X射線的透過(guò)率不同。其中鈹?shù)耐高^(guò)率最好,當(dāng)X射線的能量達(dá)到3Kev時(shí)就能有50%以上的射線透過(guò)。所以濱松所生產(chǎn)的X射線源都采用鈹窗。但值得注意的是,有些應(yīng)用中只需要高能部分X射線,此時(shí)可以自行添加鋁層等過(guò)濾層,過(guò)濾低能X射線。
X射線源焦點(diǎn)
在MFX中,電子透鏡將電子束聚焦到靶上的一個(gè)點(diǎn)——X射線焦點(diǎn)。在其他條件一致的情況下,X射線焦點(diǎn)越小,成像質(zhì)量越好。所以這個(gè)電子透鏡設(shè)計(jì)的優(yōu)劣(直接)決定MFX的性能。開放管一般使用線圈通過(guò)磁場(chǎng)對(duì)電子軌道進(jìn)行控制,能使焦點(diǎn)更小。封閉管受到FOD的限制,一般使用電場(chǎng)對(duì)電子軌道進(jìn)行控制,焦點(diǎn)偏大。濱松目前最好的開放管焦點(diǎn)尺寸可以達(dá)到0.25um(L10711-03)。
電子在沖撞靶面時(shí)X射線變換的效率很低,99%以上會(huì)變成熱能;而MFX是把大量電子聚焦到靶上的極小一點(diǎn)(X射線焦點(diǎn))上,過(guò)高的功率或者隨著工作時(shí)間延長(zhǎng),靶面會(huì)被逐漸融化,使得:1、穩(wěn)定性漸漸變差;2、產(chǎn)生的X線劑量漸漸減少,X線相機(jī)上的圖像變昏暗;3、焦點(diǎn)尺寸漸漸變大,分辨率變差。
MFX所發(fā)出的最大X射線光子能量等于入射電子在X 射線管加速電場(chǎng)中所獲得的能量——電子電量乘以加速電場(chǎng)(即管電壓)。所以連續(xù)X射線的短波極限只與管電壓有關(guān),而與其他因素?zé)o關(guān)。管電壓越高,所產(chǎn)生的X射線的能量越高,波長(zhǎng)越短,穿透物質(zhì)的能力也越強(qiáng)。
管電流越大,單位時(shí)間轟擊到靶上的高速電子就越多,MFX發(fā)射出的X射線就越多,相當(dāng)于一定面積的X射線的劑量增加(或者類比于電燈變亮),對(duì)應(yīng)圖像的亮度增加。
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